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- JB/T 7061-1993 电力半导体器件用硅圆片
标准号:
JB/T 7061-1993
标准名称:
电力半导体器件用硅圆片
标准类别:
机械行业标准(JB)
英文名称:
Silicon wafers for power semiconductor devices标准状态:
现行-
发布日期:
1993-10-08 -
实施日期:
1994-01-01 出版语种:
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中标分类号:
电工>>输变电设备>>K46电力半导体期间、部件
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标准简介:
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本标准规定了电力半导体器件用硅单晶切割片和研磨片(简称硅片)的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输与贮存。 本标准行之有效用于直拉单晶、悬浮区熔单晶、中子嬗变惨杂晶经切割、双面研磨制备的圆形硅片。 JB/T 7061-1993 电力半导体器件用硅圆片 JB/T7061-1993
部分标准内容:
中华人民共和国机械行业标准 JB/T 7061-1993 电力半导体器件用硅圆片 1993-10-08 发布 1994-01-01 实施
1 范围
本标准规定了电力半导体器件用硅单晶切割片和研磨片(简称硅片)的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输与贮存。本标准适用于直拉单晶、悬浮区熔单晶、中子嬉变掺杂单晶经切割、双面研磨制备的硅片。
2 引用标准
GB1550, GB1555, GB2828, GB6615, GB6618, GB6619, GB11073, GB12962
3 硅片分类
3.1 硅单晶导电类型及硅片类别
硅片按导电类型分为N型和P型,按硅单晶类别分为直拉、悬浮区熔和中子嬉变掺杂三类硅片。
3.2 牌号
硅单晶切割片和研磨片的牌号为:-Msi,CS(LS)
电阻率范围(n·cm):CS表示切割片,LS表示研磨片;硅片类别:CZ表示直拉法,FZ表示悬浮区熔法,NTD表示中子嬉变掺杂法。
例如:FZ-MsiN-LS 51~60 60~80表示悬浮区熔N型硅单晶研磨片,直径为51~60mm,电阻率为60~80Ω·cm。
4 技术要求
4.1 硅片的导电类型、电阻率、少子寿命、位错、晶向偏离度等物理参数应符合GB12962的规定。非等径硅片的技术参数应符合表1的规定,硅片厚度按用户要求。
表1 非等径硅片技术参数
| 产品名 | 切割片 | 研磨片 |
|----------|----------|----------|
| 厚度偏差 | ±0.015 | ±0.010 |
| 总厚度变化 | ≤0.015 | ≤0.005 |
| 弯曲度 | ≤0.015 | ≤0.010 |
表2 等径硅片技术参数
| 产品名 | 切割片 | 研磨片 |
|----------|----------|----------|
| 直径偏差 | ±0.3 | ±0.3 |
| 厚度偏差 | ±0.015 | ±0.010 |
| 总厚度变化 | ≤0.015 | ≤0.010 |
| 弯曲度 | ≤0.015 | ≤0.020 |
4.2 等径硅片的技术参数应符合表2的规定,硅片厚度根据用户要求。
4.3 硅片的晶向偏离度不应大于3°。
4.4 硅片表面质量应符合标准要求。
5 包装、运输与贮存
硅片的包装、运输与贮存应符合相关行业标准及用户的特殊要求。
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