【电子行业标准(SJ)】 JB－VⅡ型掩膜对准曝光机完好要求和检查评定方法

中华人民共和国电子行业标准
JB一证型掩模对准曝光机
完好要求和检查评定方法
1生题内容与用范围
SJ/T31121-94
本标准规定了JB一VI型掩模对准曝光机的宪好要求和检查，评定方法。本标准具适旧于JB-VI型掩模对准曝光机和JB-IV、JB-VI型,JBI型掩模对曝光机。
2引用标准
GB11481一89“掩模对准爆光机通用技术条件》，3术语
3.1曝光分辨率
在集成电路和其它半导体器件制造中，曝光分辨率是指在一定环境条件和工艺条件下，基片燥光、显影后，获得的细小图形的清晰度，通常用曦光后所获得的最细图形线宽度表示。3.2对准精度
在基片与掩模对准完成后，对准标记中心线之间允许的大误差称为对准精度。以掩模版的基片上标记中心线的最终相对位置的编差量作为判据，4完好要求
4.1主要技术指标
4.1.1有效曝光面积内光强均匀性优于士10%。4.1.2源光强装量的光强波动值不人」士5%，4.1.3对准精度优于爆光分辨率，或优于士.6m。4.1.4爆光分辨率达到或优于2.0um，或满足T艺要求4.1.5扫播部件移动时，垂直方向跳动量大于10gm。4.2操作系统免费标准bzxz.net
4.2.1各操作手、开关、按钮、启动灵活，定位可靠。4.2.2爆光系统动作灵活可带，与显微镜升降，快门启闭，动作协调，准确到位。4.2.3微动台X，Y.2移动，0转角达到使用要求；移动和转动时，全程手感平滑。4.2.4承片台载片牢靠，吸片，送片没有误动作，满足工作要求。4.3润滑系统
中华人民共和国电子工业部1994-04-15批准1994-06-01实施
SJ/T 31121-94
4.3.1机械录满滑良好，油路通畅，洒而在规定刻线，4. 3.2曝光系统运动导轨润滑良好4.4系
4.4.1有乐缩空气控制的机构（如一支点找平，误差补偿头的气鼠锁紧.显微镜升降等）减压阅等调整火店可放，压力范用薄足工作要求。4.4.2真空吸片，真常暇版，真窄复印时，负乐应满足工作要求4.5电系统；
4.5.1录灯电路启动活速，电磁阀控制的快门打开光漏光和-卡死现象：4.5.2意片录灯输率稳定，电流致光强在避范概可调，4.5.3各电气部分无漏电现象，满足作要求：4.6光路系统
4.6.1良微镜的分群率优于对准标误要求的分辨率双司分离视场显微镜的两物镜及两日镜的中心随在一定范用内能理续调4.6.2有效曝光光束直径应大于等于基片尺寸加X、Y方向调节范：4.7附件：
4.7.1机械泵，空压机，冷却氮气装置保管良好，无锈独与损伤；4.7.2机械泵，完好要求参照SJ/T31121一91执行；空压机运行稳定。4.8装全保护
4.8.1整机接地良好.保护装臣齐今、有效。4.9维护保养
4.9.1汞灯照度降低后，及时更换新灯以满足照度要求。4.9.2定期清活设备，更换机械泵油。4.9.3环境条件保持在温度20~25℃.湿度35~70%，百级或干级净化，环境振动幅度小于4pm
4.9.4其它按ST/T31002—94设备维护保养通谢》中第章执行。5检查、评定友法
5.1检登方法
5.1.1光强均句性的检查方法：用精度不低了0.33mW/cm的紫外线照度计检查有效爆光面积内的五点光强（中心一点，周围均布4点）：光强均匀性按下式计算光强均性：U =±(Emx - hmin)/(Emax + Emm) X 100%式中·。光强均勾性，；
Eux最大光强值，mW/cm；
E..——最小光强值.mW/cm\
如此三次，敢平均偕。
SJ/T 31121-94
5.1.2恒光强波动度检查方法：用厨5.11照度计检查11内的光强变化宜，按下式计算光强波动度D：
D =(hnx - rm.)/E X 100%
武巾：EmE——最大和最小光强值,mW/crn;——4小时内平均光强,mW/cm：
5.-1.3对准精度的检查片法：将涂好胶的基片用有特定标志的版进行精确对准，然后爆光.显影、菌蚀，再次涂胶，完或精确对准，曝光，显影，用线宽测量仪测出特定标志X、Y向偏离值，如此6，取其均镇，
5.1.4曝光分辨率的检查方法：将基片涂胶.在规定的工艺条件下，爆光显影，观测刻线宽度，接下式计算线宽变化率。
B *- (6—b)/6, X 100%
试中：b.-一掩模版的标称线宽，μm;b一-基片线宽极值.um；
其小于10%的最细线宽为曝光分辨率。-(3)
5.1.5垂点跳动误差的检查方法：将带支架的千分表固定在扫描部件上，扫描部件移动时，测其2向跳动，
5.1.6对各系统完好要求，在设备现场，采用主观法检查。5.2评定打法：
5.2.1本要项目有：4.1.1.4.1.3.1.1.1:4.2.2,4.2.3；其余为次要项日。5.2.2主要项目有-项不符合要求.为不完好设备：次要项目有两项不符台要求.办为不完好设备。
5.2.3完好设备的继护保养.应达到优等设备标准，附加说明：
本标准由电子！业部经济运行与体制改司提出：本标准由电子工业部第13所纠织起草。本标滩主要起草人：薛中堂。
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