本文件规定了四极质谱仪的特性，该质谱仪的离子源为电子轰击型，原子的质荷比（m/z）小于300。 本文件不适用于配有其他类型离子源的四极质谱仪，比如化学电离型离子源、光电离型离子源或场电离型离子源，也不适用于分析测量较大质荷比（m/z）的四极质谱仪，它们主要用于检测有机材料。 根据已出版的文献可知，四

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本标准规定了真空溅射镀膜设备的基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。本标准适用于压力在1×10-1Pa～1×10-3Pa范围的真空溅射镀膜设备。 JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备 JB/T8945-2010

本标准规定了真空离子镀膜设备的型式与基本参数、技术要求、设备检验及其品质评价、质量承诺以及标志、包装、运输和贮存。本标准适用于电弧蒸发离子镀膜设备；电子束蒸发离子镀膜设备；磁控溅射离子镀膜设备；上述三类离子镀膜设备的组合。其它类型的具有离子镀膜特征的设备可参照执行本标准。 JB/T 8946-201

本标准规定了按压式真空定量泵的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本标准适用于泵出形态为液体、雾状、膏状、泡沫等各种型式的定量泵的生产、使用、流通和监督检验。 BB/T 0028-2004 按压式真空定量泵 BB/T0028-2004