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- YS/T 1164-2016硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
标准号:
YS/T 1164-2016
标准名称:
硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
标准类别:
有色金属行业标准(YS)
英文名称:
Test method for the content of impurities in high purity quartz used for silicon material—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometry method标准状态:
现行-
发布日期:
2016-07-11 -
实施日期:
2017-01-01 出版语种:
简体中文下载格式:
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标准简介:
本标准规定了多晶硅用高纯石英制品中铝、钙、钾、钠、铜、镁、磷、砷、锌、镍、硼含量的测定方法。
本标准适用于多晶硅用高纯石英制品中铝、钙、钾、钠、铜、镁、磷、砷、锌、镍、硼含量的测定。
部分标准内容:
ICS 81.040
Q35
YS
中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T1164-2016
硅材料用高纯石英制品中杂质含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
Test method for the content of impurities in high purity quartz used for silicon material Inductively coupled plasma atomic emission spectrometry method
2016-07-11发布
中华人民共和国工业和信息化部
2017-01-01实施
前言
本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草。本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)提出并归口。本标准起草单位:亚洲硅业(青海)有限公司、昆明冶研新材料股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、新特能源股份有限公司。本标准主要起草人:王体虎、魏东亮、蔡延国、宗冰、季静佳、陈英、张云晖、张园园、邱艳梅。
1 范围
本标准规定了多晶硅用高纯石英制品中铝、钙、钾、钠、铜、镁、磷、砷、锌、镍、硼含量的测定方法。
本标准适用于多晶硅用高纯石英制品中上述元素含量的测定,测定范围见表1。
表1 测定范围(μg/g)
铝 1.00~50.00
钙 1.00~50.00
钾 0.10~50.00
钠 1.00~50.00
铜 0.10~5.00
镁 1.00~5.00
磷 0.10~10.00
砷 0.10~10.00
锌 0.10~10.00
镍 0.10~10.00
硼 0.10~10.00
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有修改单)适用于本文件。
GB/T6682-2008 分析实验室用水规格和试验方法
GB/T8170 数值修约规则与极限数值的表示和判定
3 方法提要
称取一定量试样,用氢氟酸溶解,使二氧化硅转化为四氟化硅除去,残渣用盐酸溶解。试样溶液引入电感耦合等离子体原子发射光谱仪,在选定条件下测定各元素含量。
4 试剂
4.1 实验用水应符合GB/T6682-2008一级水要求。
4.2 氢氟酸(ρ≈1.14g/mL),杂质元素含量低于100ng/L。
4.3 盐酸(ρ≈1.12g/mL),杂质元素含量低于100ng/L。
4.4 盐酸(1+1)。
4.5 单元素标准贮存溶液(1000μg/mL)。
4.6 混合标准溶液:由铝、钙、钾、钠、铜、镁、磷、砷、锌、镍、硼标准溶液配制,各元素浓度为10μg/mL。
5 仪器与设备
5.1 电感耦合等离子体原子发射光谱仪。
5.2 电子天平(感量0.1mg)。
5.3 烘箱(105℃~110℃)。
5.4 振动磨样机。
5.5 电加热板(150℃)。
5.6 聚四氟乙烯(PTFE)烧杯(50mL)。
5.7 全氟烷氧基树脂(PFA)容量瓶。
6 干扰因素
6.1 使用铬钢料钵时需检查是否光洁,有无麻点,如有应更换。
6.2 用少量样品研磨2~3次清洗料钵,避免污染。
7 试样
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