本文件描述了常用的物理气相沉积(PVD)法制备的多层硬质涂层的成分、结构和性能的评价方法。本文件适用于利用真空沉积法如蒸发、溅射或相关的非化学方法制备产生的涂层材料。

本文件描述了管路冲刷腐蚀试验的试验装置、试验条件、试验步骤、结果评定和试验报告。 本文件适用于海水介质中金属管路耐冲刷腐蚀性能的评定，其他介质管路冲刷腐蚀试验参照使用。

本文件规定了从溶液镀覆到金属及非金属基材上的化学镀镍磷-陶瓷复合镀层的要求。 本文件适用于金属及非金属基材上的化学镀镍磷-陶瓷复合镀层。本文件不适用于三元镍合金和镍硼陶瓷复合镀层。

本文件规定了宇航用集成电路内引线采用气相沉积保护膜工艺后的气相沉积保护膜检验方法、电力学环境试验方法。 本文件适用于完成气相沉积保护膜的宇航用集成电路的试验。

本文件规定了碳基薄膜的分类、命名及简称。本文件所述的碳基薄膜是以碳为主要成分，并由物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）制备所得的薄膜。碳基薄膜包括非晶碳基薄膜[又称为类金刚石薄膜(DLC)]，CVD金刚石薄膜、石墨薄膜和类聚合物碳基薄膜。 本文件适用于工业规模生产的碳基薄膜。本文件不适用于

本文件规定了利用亚硫酸/二氧化硫蒸气测定金或钯镀层孔隙率的设备和方法，特别是用于测定电触头上的电镀层和包金层孔隙率的设备与方法。本文件不适用于孔隙率具体数值的符合性判定。 本文件不适用于通过孔隙的位置和腐蚀产物来预测镀层触点的电性能。 本文件适用于定量描述孔隙率小于100 /cm2的金或钯镀层。 本

本文件界定了孔隙率及其相关术语，并描述了金属及其他无机覆盖层孔隙率测试的原理。 本文件给出了孔隙率测试的目的，从而帮助用户选择最合适产品及其应用的测试方法。 本文件适用于覆盖层表面延伸到底层或基体的裂纹、微孔、气孔或凹坑等不连续的测试。 本文件不适用于腐蚀性能评价。

本文件规定了热喷涂涂层的后处理和精加工。 本文件适用于热喷涂涂层不同类型的机械后处理、化学处理和热处理，包括切削及其他类型的机械加工、封孔、酸浸蚀、涂装、重熔、扩散退火和热等静压处理。

本文件规定了锡含量（质量分数）为75%～80%、其余为钴的锡钴合金电镀层的标识和要求。锡钴合金镀层可作为厚度为0.1 μm～0.3 μm装饰性铬镀层的替代镀层，其硬度和耐磨性不同于铬镀层，而与锡镍合金镀层相近。 本文件适用于滚镀和挂镀锡含量（质量分数）为75%～80%、其余为钴的锡钴合金电镀层。 本

本文件提供了在金属和非金属基体上采用热喷涂制备金属、金属陶瓷、氧化物陶瓷和塑料涂层的一般准则，适当可行的热喷涂装备、正规操作、监测、质量保证，以及针对试样或工件的无损或有损检测的建议，描述了热喷涂过程中可能出现的问题以及避免问题的方法。本文件适用于各种常规热喷涂应用。本文件不适用于容许的涂层负荷和质

本文件规定了在钢、铁及其他基体金属上物理气相沉积高纯度镉涂层的技术要求。本文件描述了涂层性能要求的试验方法，以及镉涂层、铬酸盐转化膜和其他后续处理的标识方法。 镉涂层不适用于使用过程中温度达到225 ℃以上产品零(部)件的处理，或是能接触到达到该温度其他零(部)件的情况。

本文件规定了工业用金属丝编织密纹网的结构型式、型号、规格、技术要求、检验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于名义孔径为3 μm~347 μm，且用于气体、液体过滤及其他介质分离的金属丝正向编织密纹网。