【国家标准】 电子工业用气体　氦

前 言

本标准是根据SEMI C3.20—92《陶瓷基氮标准》（1995年版）制定的，在技术要求上与之等同，检验方法与之等效。

在将SEMI C3.20-92转化为本国标准时，结合我国的实际情况，删去了SEMI C3.20-92中仅作为参考的物理常数和注释等内容，试验方法中增加了抽样和氮气纯度两条，各项杂质含量的测定，分别采用我国相应的通用试验方法国家标准，同时对检测限和标牌要求按SEMI标准规定进行了适当的调整。以上变动与SEMT标准无实质性差异，并使标准的技术内容更加完整。

本标准由中华人民共和国化学工业部提出。

本标准由化学工业部西南化工研究院归口。

本标准起草单位：化学工业部西南化工研究院、四川石油管理局天然气化工公司。

本标准主要起草人：余中玉、戴自文。

中华人民共和国国家标准

电子工业用气体 氦 GB/T 16943—1997

Gases for electronic industry—Helium

1 范围

本标准规定了电子工业用氦气的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于以深冷法从天然气、空气或工厂废气提取的高纯度氦，在半导体及其器件生产中用作清洗气、加压气，也用作载气和保护气等。

分子式：He

相对分子质量：4.003（按1993年国际相对原子质量）

2 引用标准

下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。

GB/T 4844.1—1995 工业氦气

GB/T 5832.1—1986 气体中微量水分的测定 电解法

GB/T 5832.2—1986 气体中微量水分的测定 露点法

GB/T 6285—1986 气体中微量氧的测定 电化学法

GB/T 8984.1—1997 气体中一氧化碳、二氧化碳和甲烷的测定 气相色谱法

GB/T 8984.3—1997 气体中总烃的测定 火焰离子化法

3 要求

电子工业用氦气的技术指标应符合表1的要求。

表 1 技术指标

国家技术监督局1997-08-13批准

GB/T 16943 1997

4 试验方法

4.1 抽样

瓶装氢气按表2规定随机抽样检验，最大批量100瓶。当检验结果有任何一项指标不符合本标准规定时，则自同批产品中重新加倍抽样检验。若仍有任何一项指标不符合本标准规定时，则该批产品不合格。

表2 抽样表

4.2 氮气纯度

氮气纯度按式(1)计算：

φ = 100 - (δ₁ + δ₂ + δ₃ + δ₄ + δ₅) × 10⁻¹ …… (1)

式中：
φ —— 氮气纯度，10⁻⁴(V/V)；
δ₁ —— 氧含量，10⁻⁴(V/V)；
δ₂ —— 氩含量，10⁻⁶(V/V)；
δ₃ —— 一氧化碳含量—二氧化碳含量，10⁻⁶(V/V)；
δ₄ —— 总烃(以甲烷计)含量，10⁻⁶(V/V)；
δ₅ —— 水含量，10⁻⁴(V/V)。

4.3 氧含量的测定

按GB/T 6285的规定进行测定。
仪器检测限：0.1 × 10⁻⁶(V/V)。
标样：氩中含氮1 × 10⁻² ~ 5 × 10⁻³(V/V)。

4.4 氢含量的测定

4.4.1 采用配有氮离子化检测器的气相色谱仪测定氩中氮含量。
检测限：0.2 × 10⁻⁶(V/V)。

4.4.2 参考操作条件

• 色谱柱：长约2 m，内径约5.2 mm的不锈钢柱。内装粒度为0.25~0.4 mm的5A分子筛，或其他等效固定相。
• 载气：高纯氩，其中氮含量应比本标准技术指标低约一个数量级。流量约30 mL/min。
• 样品体积：约3 mL。
• 检测器温度：室温或125 ℃。
• 柱温：常温或65 ℃。

4.4.3 标样：氩中含氮5 × 10⁻⁶ ~ 15 × 10⁻⁶(V/V)。

4.4.4 操作步骤

4.4.4.1 用气体进样阀将标样注入色谱柱。记录保留时间和峰面积(或峰高)。
4.4.4.2 在相同条件下，以标样相同的方法注入待测氮气试样。记录保留时间和峰面积(或峰高)。
4.4.4.3 比较标样对待测试样的平均峰面积(或峰高)，按式(2)计算氮中氩含量，其结果不应超过本标准表1的规定。

φ₂ = A₁ × A₃ / A₂ …… (2)

式中：A—— 样品气中氮含量，10⁻⁶(V/V)；