【其他行业标准】 溅射用钽靶材

中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T1024-2015 溅射用钼靶材 Tantalum sputtering targets 2015-04-30 发布 中华人民共和国工业和信息化部发布 2015-10-01 实施 前言 本标准按照 GB/T1.1-2009 的规则起草，由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）提出并归口。起草单位包括宁夏东方钼业股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、西安方科新材料科技有限公司。主要起草人：钟景明、李桂鹏、汪凯、李兆博、姚力军、熊晓东、王莉、宿康宁、王小青、杜铁路。 1 范围 本标准规定了用于制备薄膜的溅射用钼靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钼锭为原料，通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钼靶材（以下简称钼靶材）。 2 规范性引用文件 下列文件对本标准的应用必不可少。注日期的引用文件仅适用所注版本；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有修改单）适用。 - GB/T1804 一般公差未注公差的线性和角度尺寸公差 - GB/T4340.1 金属材料维氏硬度试验 第1部分：试验方法 - GB/T6394 金属平均晶粒度测定方法 - GB/T8651 金属板材超声波板探伤方法 - GB/T15076.8 钼化学分析方法 碳量和硫量的测定 - GB/T15076.13 钼化学分析方法 氮量测定 - GB/T15076.14 钼化学分析方法 氧量测定 - GB/T15076.15 钼化学分析方法 氢量测定 - GB/T20967—2007 无损检测 总则 - YS/T837 溅射靶材背板结合质量超声波检验方法 - YS/T899 高纯钼化学分析方法 痕量杂质元素测定 3 要求 3.1 产品分类 钼靶材按纯度分为：3N5（99.95%）、4N（99.99%）、4N5（99.995%）三个级别。 3.2 化学成分 钼靶材化学成分应符合表1规定。Ta含量为100%减去要求杂质总含量（不包括 C、N、H、O）的余量。表1 列出了各级别靶材的主要元素及杂质含量要求，包括 Al、Ca、Co、Cr、Cu、Fe、K、Li、Mg、Mn、Mo、Na、Nb、Ni、Si、Sn、Th、Ti、U、B、V、W、Zn、Zr 及气体杂质 N、H、S 等。 3.3 尺寸及允许偏差 3.3.1 钼靶材尺寸及平面度要求 3.3.1.1 直径及厚度允许偏差见表2 表2 直径 ≤250mm ±0.20mm；>250~400mm ±0.25mm；≥400~500mm ±0.30mm 厚度 ≤8mm ±0.20mm；>8~15mm ±0.25mm；>15~25mm ±0.30mm 3.3.1.2 平面度要求见表3 表3 平面度 ≤0.20mm；≤0.35mm；≤0.50mm（直径对应） 3.3.2 表面粗糙度 表面粗糙度 Ra ≤1.6μm。