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【其他行业标准】 高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

本网站 发布时间: 2025-12-12 13:13:54

基本信息

  • 标准号:

    YS/T 897-2013

  • 标准名称:

    高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法

  • 标准类别:

    有色金属行业标准(YS)

  • 英文名称:

    Methods for chemical analysis of high purity niobium—Determination of trace impurity element content—Glow discharge mass spectrometry
  • 标准状态:

    已作废
  • 发布日期:

    2013-10-17
  • 实施日期:

    2014-03-01
  • 作废日期:

    2025-05-01
  • 出版语种:

    简体中文
  • 下载格式:

    .pdf .zip
  • 下载大小:

    1.76 MB

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标准分类号

关联标准

出版信息

  • 出版社:

    中国标准出版社
  • 页数:

    8页
  • 标准价格:

    14.0
  • 出版日期:

    2014-03-01

其他信息

  • 起草人:

    李艳芬、李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、臧慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰
  • 起草单位:

    北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司
  • 发布部门:

    中华人民共和国工业和信息化部
  • 主管部门:

    全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
  • 相关标签:

    化学分析 方法 杂质 元素 测定 放电 质谱法
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标准简介:

本标准规定了高纯铌中痕量杂质元素的测定方法,测定元素见表1。 本标准适用于高纯铌中痕量杂质元素的测定。除钽、钼、钨外各元素测定范围为1.0μg/kg~5000μg/kg,钽的测定范围为1.0μg/kg~300000μg/kg,钼和钨的测定范围为1.0μg/kg~100000μg/kg。
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本标准起草单位:北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司。
本标准主要起草人:李艳芬、李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、臧慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰。

标准内容标准内容

部分标准内容:

中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T897-2013 高纯锆化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
Methods for chemical analysis of high-purity niobium - Determination of trace impurity element content - Glow discharge mass spectrometry
2013-10-17发布
中华人民共和国工业和信息化部2014-03-01实施
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草,由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。起草单位包括北京有色金属研究总院、金川集团股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司。主要起草人有李艳芬、李宝城、刘英、孙泽明、童坚、李继东、减慕文、李娜、程紫辉、张江峰、邱平、秦芳林、文英、王攀峰。
1 范围
本标准规定了高纯锆中痕量杂质元素的测定方法,测定元素见表1。适用于高纯锆中痕量杂质元素的测定。除钼和钨外,各元素测定范围为1.0 μg/kg ~ 5000 μg/kg,钼的测定范围为1.0 μg/kg ~ 300000 μg/kg,钨的测定范围为1.0 μg/kg ~ 100000 μg/kg。
2 方法原理
试料作为阴极进行辉光放电,其表面原子被溅射进入辉光放电等离子体中,离子化后导入质谱仪进行测定。在每一元素同位素质量数处以预设的扫描点数和积分时间对谱峰积分,所得面积为谱峰强度。在缺少标准样品时,计算机可根据仪器软件中的典型相对灵敏度因子计算元素质量分数;有标准样品时,通过相同分析条件下对标准样品测定获得相对灵敏度因子,并应用其计算元素质量分数。被测元素的含量以质量分数 w(X) 表示。bzxz.net
3 试剂与材料
除另有说明外,分析中所用试剂均为优级纯,所用水为一级水。
3.1 无水乙醇
3.2 氩气(≥99.999%)
3.3 氢氟酸(HF,≥1%)
3.4 高纯锆标准样品,被测元素质量分数在50 μg/kg~500 μg/kg
3.5 高纯锆空白样品,要求被测元素质量分数低于被测试样的10倍以上
4 仪器
4.1 高分辨率辉光放电质谱仪,中分辨率模式下分辨率可达3000~4000,高分辨率模式下可达9000~10000。测定同位素及分辨率见表1。测定时要求Nb同位素谱峰强度不小于5×10^6 cps,峰形符合分辨率要求。
表1 主要测定元素及同位素分辨率
元素 | 同位素质量数 | 分辨率
Li | 7 | 中分辨
Be | 9 | 中分辨
B | 11 | 中分辨
Na | 23 | 中分辨
Mg | 24 | 中分辨
Al | 27 | 中分辨
Si | 28 | 中分辨
P | 31 | 中分辨
S | 32 | 中分辨
Cl | 35 | 中分辨
K | 39 | 中分辨
Ca | 44 | 高分辨
Ti | 48 | 中分辨
V | 51 | 中分辨
Cr | 52 | 中分辨
Mn | 55 | 中分辨
Fe | 56 | 中分辨
Co | 59 | 中分辨
Ni | 60 | 中分辨
Cu | 63 | 中分辨
Zn | 68 | 中分辨
Ge | 72 | 高分辨
As | 75 | 中分辨
Se | 82 | 中分辨
Br | 79 | 中分辨
Rb | 85 | 中分辨
Sr | 88 | 中分辨
Y | 89 | 中分辨
Zr | 90 | 中分辨
Mo | 95 | 中分辨
Ru | 101 | 中分辨
Rh | 103 | 中分辨
Pd | 105 | 中分辨
Cd | 114 | 中分辨
In | 115 | 中分辨
Sn | 118 | 中分辨
Sb | 123 | 中分辨
Te | 128 | 中分辨
Cs | 133 | 中分辨
Ba | 138 | 中分辨
La | 139 | 中分辨
Ce | 140 | 中分辨
Pr | 141 | 中分辨
Nd | 146 | 中分辨

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YS/T 897-2013高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法
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