本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。 GB/T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 GB/T16879

本规范规定若干种标准测试图形，用以对集成电路生产中所用的微图形设备、计量仪器和工艺进行一致的全面评估和检测。 GB/T 16878-1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范 GB/T16878-1997

本标准规定了半导体设施接口技术文件编写的基本要求和格式。本标准适用于半导体设施的设计、施工、供应、管理、培训及使用。 GB/T 15873-1995 半导体设施接口技术文件编写导则 GB/T15873-1995

本标准规定了半导体设备电源接口的供电类别，选择电源接插件、导线和电缆的要求。本标准适用于半导体设备的电源接口。 GB/T 15872-1995 半导体设备电源接口 GB/T15872-1995

本标准规定了硬面光掩模用玻璃基板的要求、试验方法、检验规则等内容。本标准适用于硬面光掩模用玻璃基板。 GB/T 15871-1995 硬面光掩模基板 GB/T15871-1995

本标准规定了硬面光掩模用铬薄膜的要求、试验方法、检验规则等内容。本标准适用于硬面光掩模用铬薄膜。 GB/T 15870-1995 硬面光掩模用铬薄膜 GB/T15870-1995

本标准规定了离子注入机的术语、产品分类、技术要求、试验、检验规则和标志、包装、运输、贮存。本标准适用于半导体工艺用电能离子注入机。 GB/T 15862-1995 离子注入机通用技术条件 GB/T15862-1995

本标准规定了离子束蚀刻机的术语、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、贮存等。本标准适用于物理溅射腐蚀作用的通用离子束蚀刻机。 GB/T 15861-1995 离子束蚀刻机通用技术条件 GB/T15861-1995

本标准规定了多探针测试台的术语、技术要求、试验方法、检验规则、包装贮存等要求。本标准适用于手动、半自动、全自动多探针测试台。其他类型的探针测试台亦可参照使用。 GB/T 15394-1994 多探针测试台通用技术条件 GB/T15394-1994