【国家标准】 表面化学分析 扫描探针显微术 用于二维掺杂物成像等用途的电扫描探针显微镜(ESPM,如SSRM和SCM)空间分辨的定义和校准
本网站 发布时间:
2026-03-07 19:44:30
- GB/T43661-2024
- 现行
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标准号:
GB/T 43661-2024
标准名称:
表面化学分析 扫描探针显微术 用于二维掺杂物成像等用途的电扫描探针显微镜(ESPM,如SSRM和SCM)空间分辨的定义和校准
标准类别:
国家标准(GB)
英文名称:
Surface chemical analysis—Scanning probe microscopy—Standards on the definition and calibration of spatial resolution of electrical scanning probe microscopes(ESPMs) such as SSRM and SCM for 2D-dopant imaging and other purposes标准状态:
现行-
发布日期:
2024-03-15 -
实施日期:
2024-10-01 出版语种:
简体中文下载格式:
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标准ICS号:
化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析中标分类号:
化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法
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标准简介:
本文件描述了用于测量扫描电容显微镜(scanning capacitance microscope,SCM)或扫描扩展电阻显微镜(scanning spreading resistance microscope,SSRM)空间(横向)分辨的方法,该方法涉及使用锐边的器件。这2种显微镜广泛应用于半导体器件的载流子分布成像和其他电学特性的测量。
部分标准内容:
ICS 71.040.40
CCS G 04
中华人民共和国国家标准
GB/T 43661—2024 / ISO 13083:2015
表面化学分析 扫描探针显微术
用于二维掺杂物成像等用途的电扫描探针显微镜(ESPM,如SSRM和SCM)空间分辨的定义和校准
Surface chemical analysis — Scanning probe microscopy — Standards on the definition and calibration of spatial resolution of electrical scanning probe microscopes (ESPMs) such as SSRM and SCM for 2D dopant imaging and other purposes
2024-03-15 发布
2024-10-01 实施
发布单位:国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
前言
本文件按照 GB/T 1.1—2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。
本文件等同采用 ISO 13083:2015《表面化学分析 扫描探针显微术 用于二维掺杂物成像等用途的电扫描探针显微镜(ESPM,如SSRM和SCM)空间分辨的定义和校准》。
请注意,本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)提出并归口。
本文件起草单位:中山大学、广东工业大学、暨南大学。
本文件主要起草人:龚力、杨慕紫、陈瑜、张浩、谢伟广、谢方艳、丁喜冬、陈建。
1 范围
本文件描述了用于测量扫描电容显微镜(SCM)或扫描扩展电阻显微镜(SSRM)空间(横向)分辨的方法。该方法涉及使用具有锐边结构的器件进行测量。
这两种显微镜广泛应用于半导体器件的载流子分布成像及其他电学特性的测量。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过规范性引用构成本文件必不可少的条款。凡是注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有修改单)适用于本文件。
ISO 18115-2 表面化学分析 词汇 第2部分:扫描探针显微术术语(Surface chemical analysis — Vocabulary — Part 2: Terms used in scanning-probe microscopy)。
注:GB/T 22461.2—2023《表面化学分析 词汇 第2部分:扫描探针显微术术语》(ISO 18115-2:2021,MOD)。
3 术语和定义
ISO 18115-2 界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1 电扫描探针显微术(ESPM)
采用导电探针测量材料电学特性(例如电容、电阻、电场等)的扫描探针显微术。
3.2 接触模式(contact mode)
通过调整探针与样品的相对高度,使探针尖端在样品表面进行扫描的模式。在该模式下,探针与样品之间始终存在排斥力。
注:该模式可分为恒高模式或恒力模式。(来源:ISO 18115-2:2013,6.35)
4 符号和缩略语
下列符号和缩略语适用于本文件:
AC:交流(alternating current)
AFM:原子力显微术(atomic force microscopy)
DC:直流(direct current)
ESPM:电扫描探针显微术(electrical scanning probe microscopy)
MIS:金属-绝缘体-半导体(metal-insulator-semiconductor)
MOS:金属-氧化物-半导体(metal-oxide-semiconductor)
SCM:扫描电容显微术(scanning capacitance microscopy)
SSRM:扫描扩展电阻显微镜(scanning spreading resistance microscopy)
(后续章节包括:基本信息、锐边法测量SCM横向分辨、锐边法测量SSRM空间分辨、SCM与SSRM分辨测量示例、附录及参考文献等内容。)
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