QB/T 1912-1993. 1主题内容与适 用范围 QB/T 1912规定了眼镜架金属镀层厚度的非接触式、无损测试方法(X荧光光谱测试法)的测试原理、仪器设备、标准样品、试样、测试程序、测试不确定度及试验报告。 QB/T 1912适用于定量测试眼镜架金属镀层的厚度。 2术语 2.1 X射线荧光X

本标准规定了钢铁制件热浸镀锌层的技术要求和试验方法。本标准对热浸镀锌产品的后处理和保护涂层未做规定。 　　 本标准适用于钢铁制件（包括某些铸件）的热浸镀锌层（其它合金元素总含量不超过2%）。本标准不适用于下列情况： a）连续式热浸镀锌的板材、线材、编织物或焊接网； b）自动化设备热浸镀锌的管材和棒材

本标准规定了柔性薄膜基体上涂层（包含有机、无机与金属涂层)厚度扫描电子显微镜测量的基本方法及原理、标准样品和仪器设备、操作方法、数据处理的方法。本标准适用于厚度不大于3 mm的柔性薄膜基体上厚度为10 nm～0.5 mm的涂层的厚度测量。

本文件描述了常用的物理气相沉积(PVD)法制备的多层硬质涂层的成分、结构和性能的评价方法。本文件适用于利用真空沉积法如蒸发、溅射或相关的非化学方法制备产生的涂层材料。

本文件描述了管路冲刷腐蚀试验的试验装置、试验条件、试验步骤、结果评定和试验报告。 本文件适用于海水介质中金属管路耐冲刷腐蚀性能的评定，其他介质管路冲刷腐蚀试验参照使用。

本文件规定了从溶液镀覆到金属及非金属基材上的化学镀镍磷-陶瓷复合镀层的要求。 本文件适用于金属及非金属基材上的化学镀镍磷-陶瓷复合镀层。本文件不适用于三元镍合金和镍硼陶瓷复合镀层。

本文件规定了宇航用集成电路内引线采用气相沉积保护膜工艺后的气相沉积保护膜检验方法、电力学环境试验方法。 本文件适用于完成气相沉积保护膜的宇航用集成电路的试验。

本文件规定了碳基薄膜的分类、命名及简称。本文件所述的碳基薄膜是以碳为主要成分，并由物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）制备所得的薄膜。碳基薄膜包括非晶碳基薄膜[又称为类金刚石薄膜(DLC)]，CVD金刚石薄膜、石墨薄膜和类聚合物碳基薄膜。 本文件适用于工业规模生产的碳基薄膜。本文件不适用于

本文件规定了利用亚硫酸/二氧化硫蒸气测定金或钯镀层孔隙率的设备和方法，特别是用于测定电触头上的电镀层和包金层孔隙率的设备与方法。本文件不适用于孔隙率具体数值的符合性判定。 本文件不适用于通过孔隙的位置和腐蚀产物来预测镀层触点的电性能。 本文件适用于定量描述孔隙率小于100 /cm2的金或钯镀层。 本

本文件界定了孔隙率及其相关术语，并描述了金属及其他无机覆盖层孔隙率测试的原理。 本文件给出了孔隙率测试的目的，从而帮助用户选择最合适产品及其应用的测试方法。 本文件适用于覆盖层表面延伸到底层或基体的裂纹、微孔、气孔或凹坑等不连续的测试。 本文件不适用于腐蚀性能评价。