【国家标准(GB)】 识别卡 光记忆卡 线性记录方法 第2部分:可访问光区域的尺寸和位置

GB/T17550.2--1998
本标准等同采用国际标准ISO/1EC11694-2：1995《识别卡分：可访问光区域的尺寸和位置》。GB/T17550在总标题《识别卡
光记忆卡
第1部分：物理特性；
一第2部分：可访问光区域的尺寸和位置；第3部分：光属性和特性，
第4部分：逻辑数据结构
本标准的附录A是标准的附录。
本标准由中华人民共和国电子工业部提出。本标准由电子工业部标准化研究所归口。本标准起草单位：电子工业部标准化研究所。光记忆卡
线性记录方法
线性记录方法》下包括下述部分：本标准主要起草人：蔡怀中、冯惠、李韵琴、冯敬、陈云峰。第2部
GB/T 17550.2-1998
ISO/IEC前言
ISO（国际标准化组织）和IEC（国际电工委员会）建立了世界范围标准化的专门系统。ISO或IEC的国家成员团体通过国际组织建立的各个技术委员会参与制定针对特定技术领域的国际标准。ISO和IEC技术委员会在共同感兴趣的领域合作。其他与ISO和IEC有联系的官方和非官方的各国际组织也参与此项工作。
在信息技术领域，ISO和IEC建立了个联合技术委员会，即ISO/IEC JTC1。由联合技术委员会提出的国际标准草案需分发给各成员团体进行表决。作为国际标准发布至少需要75%的成员团体投票赞成。
国际标准ISO/IEC11694-2由联合技术委员会ISO/IECJTC1（信息技术）的分委员会SC17（识别卡及相关设备)制定。
ISO/IEC11694在总标题“识别卡光记忆卡线性记录方法》下包括下述部分：第1部分：物理特性；
第2部分：可访问光区域的尺寸和位置；—第3部分：光性质和特性；
第4部分：逻辑数据结构。
附录A是本标准的组成部分。
GB/T 17550. 2—1998
本标准是描述光记忆卡的参数以及如何使用这种·荐储和交换数字数据的系列标准之这些标准承认用于记录和读取光记忆卡上的信息的各种不同方法的存在。光记忆卡的这些特性特定了所使用的记录方法。一般而言，这些不同的记录方法不能相互兼容。因此，以种“效的方式制定这些标准来包容现有的和将来的记录方法本标准专用于使用线性记录方法的光记忆卡。适用于其他特定记录方法的特性将出现在一些独立的标准文件中。
本标准定义了可访问光区域的尺寸和位暨以及符合、加或/和不符合此相关的基本文件GB/T 17551的范围。
1范围
中华人民共和国国家标准
识别卡光记忆卡线性记录方法
第2部分：可访问光区域的尺寸和位置Identification cards---Optical memory cards--Linear recording method-Part 2 :Dimensions and location of the accessible optical areaGB/T 17550. 2 -- 1998
idt ISO/IEC 11694-2 : 1995
本标准定义了使用线性记录方法的光记忆卡的可访间光区域的尺寸和位置，2引用标准
下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准山版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。GB/T17551-1998　识别卡　光记忆卡—般特性（idrISO/IEC11693：1994）ISO/IEC7810:1995识别卡物理特性ISO/IEC11694-4：1995识别卡光记忆卡线性记录方法第4部分：逻辑数据结构3定义
GB/T17551给出的定义以及下列定义适用于本标准。3.1脉冲位置调制pulse positionmodulation(PPM)种编码方法。在个给定位置上，通过标记的出现或不出现来传送二进制数据。“…个标记表示-…个数据跃变。
3.2脉冲宽度调制pulsewidth modulation(PWM）一种编码方法。通过标记边沿的位置来传送一进制数据。个标记表示两个数据跃变。3.3基准边 reference edges
卡的下水平边和左垂直边，如图1所示。当光记忆卡有凸印时，可替换使用其他基准边，参见附录A。
3.4基准光迹 reference track
离卡基准边最近的第·条光迹，如图1所示。4尺寸和位置
本标准适用于仅包含一个可访问光区域的卡。4.1可访问光区域
可访问光区域的寸和位置如图1所示。4.2尺寸℃
本标准并未固定图1所示的尺寸C，而留给用户团体来规定以便用于要求交换的应用。尺寸C决不国家质量技术监督局1998-11~05批准124
1999-06-01实施
GB/T 17550.2—1998
应小于9.5mm，也不应大于49.2mm。附录A描述了任选卡的布局。4.3 尺寸X
当使用PWM时，尺寸X最大应为3.0mm。当使用PPM时，尺寸X最大应为1.0mm。见图1和ISO/IEC11694-4的附录A或附录B。4.4尺寸Y
尺寸Y如图1所示，它应比尺寸D至少小1.0mm。当使用PWM时，尺寸Y最大应为4.5mm，见ISO/IEC11694-4:1996的附录A。4.5歪斜
卡的基准光迹相对于底边的歪斜应小于或等于0.20°。见图1。单位：mm
注：绘图未按比例。
基准边
可访问光区域
基准光迹bzxz.net
A=-85.4785.72(ISO/IEC7810);B53.92~54.03(ISO/IEC7810);C=见4.2;D-5.8±0.7;X=见4.3;Y=见4.4
图1可访问光区域的尺寸和位置
A1范围
GB/T 17550.2---1998
附录A
（标准的附录）
任选卡布局
本附录提供了与使用线性记录方法有关的光记忆卡可访问光区域的尺寸和位置的信息。除了可访问光区域外，还可以包括磁条、签名条、带触点的集成电路（IC）芯片和/或凸印区。A2引用标准
下列标准所包含的条文，通过在本附录中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。GB/T16649.2—1996识别卡带触点的集成电路卡第2部分：触点的尺寸和位置（idtIS(）7816-2:1988)
ISO/IEC7811-2：1995识别卡记录技术第2部分：磁条ISO/IEC 7811-3:1995
ISO/IEC 7811-4 : 1995
ISO/IEC 7811-5:1995
A3可访问光区域
识别卡记录技术第3部分：在ID-1型卡上凸印字符的位置识别卡记录技术第4部分：只读磁道的位置磁道1和2识别卡记录技术第5部分：读写磁道的位置磁道3图1中的尺寸适用于图A1和图A2。注：作为参考，可访问光区域的典型位置应放在与磁条相对的卡的另一面。A3.1可访问光区域
——无凸印
当与带触点的IC芯片、磁条和/或签名条组合时，可访问光区域的位置如图A1所示。A3.2可访问光区域—一无IC芯片当与磁条、签名条和/或凸印组合时，可访问光区域的位置相对于图1应旋转180°，如图A2所示。注：相对于基准边的新位置，图1的尺寸仍然适用。A4磁条
磁条的位置应符合ISO/IEC7811-2、ISO/IEC7811-4和ISO/1EC7811-5。磁条的典型位暨是在与可访问光区相对的另一面（如图A1、图1和图A2所示）。在图1和图A1的情况下，只要不危及可访问光区域，磁条可放在卡的任一面。A5签名亲
签名条的位置应在可访问光区域相对的一面，如图1、图A1和图A2所示，且应符合ISO/IEC7810提出的表面扭曲特性。签名条的两条边距卡的顶边应不小于20.0mm，也不大于30.0mm。A6带触点的IC芯片
带触点的IC芯片的位置应符含GB/T16649.2。典型的位置是与可访问光区域在同-一面，其另-面是磁条。如图A1所示。然而，在图1的情况下，带触点IC芯片可放在卡的任面。126
GB/T17550.2—1998
凸印的位置应符合ISO/IEC7811-3，其位置应与可访问光区域在同一面，其另一面是磁条，如图A2所示。
绘图不按比例。
带触点
可访向光区域
基准边-
与可访问光区域相关的尺寸参见图1。签名条
基准光迹-
与磁条相关的尺寸参见ISO/IEC7811-2.ISO/IEC7811-4，ISO/IEC7811-5。3
与IC芯片相关的尺寸参见GB/T16649.2。关于尺寸C参见表Al。
图A1可访问光区域——无凸印
基准边
基准光迹-
可访问光区域
西印区
绘图未按比例。
2与可访问光区域相关的尺寸参见图1。3磁条和签名条的位置可如图1所示。4与凸印区相关的尺寸参见IS()/IEC7811-3。5关于尺寸C参见表A1。
图A2可访问光区域——无IC芯片准
C=38. 40 mm
C=19.40 mm
C-48.50mm
GB/T 17550.2-1998
表A1现有卡布局举例
要求中等数据存储能力、无1C芯片或凸印的应用。使用磁条、IC芯片、凸印和/或签名条的应用。要求最大数据存储能力、无IC芯片或凸印的应用。
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