【有色金属行业标准(YS)】硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法

本网站发布时间： 1992-03-09 16:00:00

YS/T23-1992
现行

基本信息

标准号：
YS/T 23-1992
标准名称：
硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法
标准类别：
有色金属行业标准(YS)
标准状态：
现行
发布日期：
1992-03-09
实施日期：
1993-01-01
出版语种：
简体中文
下载格式：
.rar.pdf
下载大小：
KB

标准分类号

标准ICS号：
电气工程>>29.045半导体材料
中标分类号：
冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合

关联标准

出版信息

页数：
3页
标准价格：
8.0 元
出版日期：
1993-01-01

其他信息

起草人：
吴耀芬、姚保纲、周康权
起草单位：
上海市有色金属总公司半导体材料i
提出单位：
中国有色金属工业总公司标准计量研究
发布部门：
中国有色金属工业总公司

标准简介/下载

点击下载

标准简介：

本标准规定了根据堆垛层错尺寸测量硅处延层厚度的方法本标准适用于在,tloo>和(110)晶向的硅单晶衬底仁生长的硅外延层厚度的测缝外延层中应存在着发育完整的堆垛层错，其大小可用干涉相衬显微镜r:接观察(非破坏性的)，或经化学腐蚀后用金相显微镜观察(破坏性的)。测量范围为2^75 um. YS/T 23-1992 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法 YS/T23-1992 标准下载解压密码：www.bzxz.net

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