资料名称: | GB/T19922-2005 GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 |
标准类别: | 国家标准(GB) |
语 言: | 简体中文 | ||
授权形式: | 免费下载 | ||
标准状态: | 现行◎ | ||
作废日期: | ◎ | ||
发布日期: | 2005-09-19◎ | ||
实施日期: | 2006-04-01◎ | ||
首发日期: | 2005-09-19◎ | ||
复审日期: | ◎ | ||
出版日期: | 2005-12-16◎ |

标准编号: | GB/T 19922-2005 | |
标准名称: | 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 | |
下载文件: | .rar .pdf .doc | |
标准简介: | 本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。 GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 GB/T19922-2005 标准下载解压密码:www.bzxz.net | |
链接地址: | 正在调入地址 | |
替代情况: | (参考) | |
采标情况: | ASTM F1530-1994 MOD(参考) | |
发布部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国家标准化管理委员会(参考) | |
提出单位: | 中国有色金属工业协会(参考) | |
归口单位: | 信息产业部(电子)(参考) | |
主管部门: | 信息产业部(电子)(参考) | |
起草单位: | 洛阳单晶硅有限责任公司(参考) | |
起 草 人: | 史炯、蒋建国、陈兴邦、贺东江、王文、邓德翼(参考) | |
出 版 社: | 中国标准出版社(参考) |
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页 数: | 16开, 页数:9, 字数:14千字(参考) | |
书 号: | 155066.1-26922(参考) | |
计划单号: | 20011279-T-610(参考) | |
下载次数: | 7次 |