| 资料名称： | GB/T19922-2005 GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 |
| 标准类别： | 国家标准(GB) |
| 语 言： | 简体中文 | ||
| 授权形式： | 免费下载 | ||
| 标准状态： | 现行◎ | ||
| 作废日期： | ◎ | ||
| 发布日期： | 2005-09-19◎ | ||
| 实施日期： | 2006-04-01◎ | ||
| 首发日期： | 2005-09-19◎ | ||
| 复审日期： | ◎ | ||
| 出版日期： | 2005-12-16◎ |
| 标准编号： | GB/T 19922-2005 | |
| 标准名称： | 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 | |
| 下载文件： | .rar .pdf .doc | |
| 标准简介： | 本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。 GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 GB/T19922-2005 标准下载解压密码：www.bzxz.net | |
| 链接地址： | 正在调入地址 | |
| 替代情况： | （参考） | |
| 采标情况： | ASTM F1530-1994 MOD（参考） | |
| 发布部门： | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国家标准化管理委员会（参考） | |
| 提出单位： | 中国有色金属工业协会（参考） | |
| 归口单位： | 信息产业部（电子）（参考） | |
| 主管部门： | 信息产业部（电子）（参考） | |
| 起草单位： | 洛阳单晶硅有限责任公司（参考） | |
| 起 草 人： | 史炯、蒋建国、陈兴邦、贺东江、王文、邓德翼（参考） | |
| 出 版 社： | 中国标准出版社（参考） |
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| 页 数： | 16开， 页数：9， 字数：14千字（参考） | |
| 书 号： | 155066.1-26922（参考） | |
| 计划单号： | 20011279-T-610（参考） | |
| 下载次数： | 7次 | |
