资料名称: | GB/T1557-2006 GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 |
标准类别: | 国家标准(GB) |
语 言: | 简体中文 | ||
授权形式: | 免费下载 | ||
标准状态: | 现行 | ||
作废日期: | ◎ | ||
发布日期: | 2006-07-18 | ||
实施日期: | 2006-11-01 | ||
首发日期: | ◎ | ||
复审日期: | ◎ | ||
出版日期: | 2006-11-01 |
标准编号: | GB/T 1557-2006 | |
标准名称: | 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 | |
下载文件: | .rar .pdf .doc | |
标准简介: | 本标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶中的间隙氧含量的方法。 本标准适用于室外温电阻率大于0.1Ω?cm的n型硅单晶和室温电阻率大于0.5Ω?cm中间的p型硅单晶中间隙氧含量的测量。 本标准测量氧含量的有效范围从1×1016at?cm-3到硅中间隙氧的最大固熔度。 GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 GB/T1557-2006 标准下载解压密码:www.bzxz.net | |
链接地址: | 点击下载 | |
替代情况: | 替代GB/T 14143-1993;GB/T 1557-1989(参考) | |
采标情况: | ASTM F1188-2000 MOD(参考) | |
发布部门: | 中华人民共和国质量监督检验检疫总局和国家标准化管理委员会(参考) | |
提出单位: | (参考) | |
归口单位: | 中国有色金属工业协会(参考) | |
主管部门: | 中国有色金属工业协会(参考) | |
起草单位: | 峨眉半导体材料厂(参考) | |
起 草 人: | (参考) | |
出 版 社: | 中国标准出版社 (参考) |
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页 数: | 7页(参考) | |
书 号: | (参考) | |
计划单号: | 20060512-T-610(参考) | |
下载次数: | 42次 |