【国家标准(GB)】 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

本网站 发布时间: 2004-02-05 16:00:00
  • GB/T19444-2004
  • 现行

基本信息

  • 标准号:

    GB/T 19444-2004

  • 标准名称:

    硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

  • 标准类别:

    国家标准(GB)

  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2004-02-05
  • 实施日期:

    2004-07-01
  • 出版语种:

    简体中文
  • 下载格式:

    .rar.pdf
  • 下载大小:

    KB

标准分类号

  • 标准ICS号:

    电气工程>>绝缘流体>>29.040.01绝缘流体综合
  • 中标分类号:

    冶金>>金属理化性能试验方法>>H26金属无损检验方法

关联标准

  • 采标情况:

    ASTM F1239-1994 IDT

出版信息

  • 出版社:

    中国标准出版社
  • 书号:

    155066.1-20772
  • 页数:

    16开, 页数:5, 字数:9千辽
  • 标准价格:

    8.0 元
  • 出版日期:

    2004-07-01

其他信息

  • 首发日期:

    2004-02-05
  • 复审日期:

    2004-10-14
  • 起草人:

    蒋建国、屠妹英、贺东江、章云杰
  • 起草单位:

    洛阳单晶硅有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
  • 归口单位:

    全国半导体材料和设备标准化技术委员会
  • 提出单位:

    中国有色金属工业协会
  • 发布部门:

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
  • 主管部门:

    国家标准化管理委员会
标准简介标准简介/下载

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标准简介:

本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。 GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法 GB/T19444-2004 标准下载解压密码:www.bzxz.net
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